Merknaam: | ZMSH |
MOQ: | 5 |
Prijs: | by case |
Verpakking: | Aangepaste dozen |
Betalingsvoorwaarden: | T/T |
Hoogzuivere Semi-Isolerende SiC Wafers zijn ontworpen voor de volgende generatie vermogenselektronica, RF/microgolfapparaten en opto-elektronica. Onze wafers worden vervaardigd uit 4H- of 6H-SiC-enkele kristallen met behulp van een geoptimaliseerd Physical Vapor Transport (PVT)-groeiproces in combinatie met annealing met diepe-niveaus-compensatie. Het resultaat is een wafer met:
Ultra-Hoge Weerstand: ≥1×10¹² Ω·cm, om lekstromen in hoogspanningsschakelapparaten te onderdrukken
Brede Bandgap (~3,2 eV): Behoudt superieure elektrische prestaties onder hoge temperatuur, hoog veld en hoge stralingsomstandigheden
Uitzonderlijke Thermische Geleidbaarheid: >4,9 W/cm·K, voor snelle warmteafvoer in hoogvermogenmodules
Uitstekende Mechanische Sterkte: Mohs-hardheid van 9,0 (alleen overtroffen door diamant), lage thermische uitzetting en uitstekende chemische stabiliteit
Atomaal Glad Oppervlak: Ra < 0,4 nm met defectdichtheid < 1/cm², ideaal voor MOCVD/HVPE epitaxie en micro-nano fabricage
Beschikbare Maten: 50, 75, 100, 150, 200 mm (2″–8″) standaard; aangepaste diameters tot 250 mm op aanvraag.
Diktebereik: 200–1 000 μm met ±5 μm tolerantie.
Voorbereiding van Hoogzuiver SiC Poeder
Startmateriaal: 6N-grade SiC-poeder gezuiverd via meerfasige vacuüm sublimatie en thermische behandeling om metaalverontreinigingen (Fe, Cr, Ni < 10 ppb) te verminderen en polykristallijne insluitsels te elimineren.
Gemodificeerde PVT Enkelkristalgroei
Omgeving: 10⁻³–10⁻² Torr bijna-vacuüm
Temperatuur: Grafietkroes verwarmd tot ~2 500 °C; gecontroleerde thermische gradiënt ΔT ≈ 10–20 °C/cm
Gasstroom & Kroesontwerp: Poreuze grafietseparatoren en op maat gemaakte kroesgeometrie zorgen voor een uniforme dampverdeling en remmen ongewenste nucleatie
Dynamische Toevoer & Rotatie: Periodieke SiC-poedervervanging en kristalstaafrotatie leveren lage dislocatiedichtheden (< 3 000 cm⁻²) en consistente 4H/6H-oriëntatie
Annealing met Diepe-Niveaus-Compensatie
Waterstof Annealing: 600–1 400 °C in H₂ atmosfeer gedurende enkele uren om diepe-niveautraps te activeren en intrinsieke dragers te compenseren
N/Al Co-Doping (Optioneel): Nauwkeurige incorporatie van Al (acceptor) en N (donor) dotanten tijdens groei of post-groei CVD om stabiele donor-acceptorparen te creëren, waardoor de weerstandspieken worden aangestuurd
Precisie Snijden & Meerfasige Lapping
Diamantdraad Zagen: Snijdt wafers tot 200–1 000 μm dikte met minimale beschadigingslaag; diktetolerantie ±5 μm
Groffe tot Fijne Lapping: Sequentieel gebruik van diamantslijpmiddelen om zaagschade te verwijderen en voor te bereiden op polijsten
Chemisch-Mechanisch Polijsten (CMP)
Polijstmedia: Nano-oxide (SiO₂ of CeO₂) slurry in een milde alkalische suspensie
Procescontrole: Polijstparameters met lage spanning leveren RMS-ruwheid van 0,2–0,4 nm en elimineren micro-krassen
Eind Reiniging & Klasse-100 Verpakking
Meerfasige Ultrasone Reiniging: Organisch oplosmiddel → zuur/base behandelingen → gespoeld met gedeïoniseerd water, allemaal uitgevoerd in een Klasse-100 cleanroom
Drogen & Verzegelen: Stikstofspoeldrogen, verzegeld in met stikstof gevulde beschermende zakken en ondergebracht in antistatische, trillingsdempende buitenboxen
Nr. | Wafergrootte | Type/Dotant | Orientatie | Dikte | MPD | RT | Polijsten | Oppervlakteruwheid |
1 | 2" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 350 ± 25 um | <50 cm-2 | >=1E5 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
2 | 2" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 350 ± 25 um | <15 cm-2 | >=1E7 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
3 | 3" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 350 ± 25 um | <50 cm-2 | >=1E5 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
4 | 3" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 350 ± 25 um | <15 cm-2 | >=1E7 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
5 | 4" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 350 of 500 ± 25 um | <50 cm-2 | >=1E5 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
6 | 4" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 350 of 500 ± 25 um | <15 cm-2 | >=1E7 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
7 | 6" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 500 ± 25 um | <50 cm-2 | >=1E5 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
8 | 6" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 500 ± 25 um | <15 cm-2 | >=1E7 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
9 | 8" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 500 ± 25 um | <50 cm-2 | >=1E5 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
10 | 8" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 500 ± 25 um | <15 cm-2 | >=1E7 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
11 | 12" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 500 ± 25 um | <50 cm-2 | >=1E5 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
12 | 12" 4H | Semi-isolerend / V of ongedoteerd | <0001>+/-0,5 graad | 500 ± 25 um | <15 cm-2 | >=1E7 Ω•cm | Dubbelzijdig gepolijst/Si-vlak epi-klaar met CMP | <0,5 nm |
Hoogvermogen Elektronica
SiC MOSFET's, Schottky-diodes, hoogspanningsomvormers en snellaad EV-vermogensmodules maken gebruik van SiC's lage on-weerstand en hoge doorslagveld.
RF & Microgolfsystemen
5G/6G basisstation-vermogensversterkers, millimetergolf-radarmodules en satellietcommunicatie-frontends vereisen SiC's hoogfrequente prestaties en stralingshardheid.
Opto-elektronica & Fotronica
UV-LED's, blauwe-laserdiodes en breedbandgap-fotodetectoren profiteren van een atomaal glad en defectvrij substraat voor uniforme epitaxie.
Extreme Omgevingsdetectie
Hoge temperatuur druk/temperatuursensoren, gasturbine-bewakingselementen en detectoren van nucleaire kwaliteit benutten SiC's stabiliteit boven 600 °C en onder hoge stralingsflux.
Lucht- en Ruimtevaart & Defensie
Satellietvermogenelektronica, raket-radars en luchtvaartsystemen vereisen SiC's robuustheid in vacuüm, temperatuurcycli en hoge-G-omgevingen.
Geavanceerd Onderzoek & Maatwerk Oplossingen
Quantum computing isolatiesubstraten, micro-cavity optiek en op maat gemaakte venstervormen (sferisch, V-groef, veelhoekig) voor geavanceerde R&D.
Waarom kiezen voor semi-isolerend SiC boven geleidend SiC?
Semi-isolerend SiC vertoont ultra-hoge weerstand via diepe-niveaus-compensatie, waardoor lekstromen in hoogspannings- en hoogfrequente apparaten aanzienlijk worden verminderd, terwijl geleidend SiC geschikt is voor toepassingen met lagere spanning of vermogen MOSFET-kanaal.
Kunnen deze wafers direct in epitaxiale groei?
Ja. We bieden “epi-ready” semi-isolerende wafers aan die zijn geoptimaliseerd voor MOCVD, HVPE of MBE, compleet met oppervlaktebehandeling en defectcontrole om uitstekende epitaxiale laagkwaliteit te garanderen.
Hoe wordt wafer-schoonheid gegarandeerd?
Een Klasse-100 cleanroomproces, meerfasige ultrasone en chemische reiniging, plus stikstofverpakking garanderen vrijwel geen deeltjes, organische resten of micro-krassen.
Wat is de typische doorlooptijd en minimale bestelling?
Monsters (tot 5 stuks) worden binnen 7–10 werkdagen verzonden. Productieorders (MOQ = 5 wafers) worden geleverd in 4–6 weken, afhankelijk van de grootte en aangepaste functies.
Bieden jullie aangepaste vormen of substraten aan?
Ja. Naast standaard cirkelvormige wafers fabriceren we vlakke vensters, V-groef onderdelen, sferische lenzen en andere op maat gemaakte geometrieën.
ZMSH is gespecialiseerd in hightech ontwikkeling, productie en verkoop van speciaal optisch glas en nieuwe kristalmaterialen. Onze producten dienen optische elektronica, consumentenelektronica en het leger. We bieden saffier optische componenten, mobiele telefoon lens covers, keramiek, LT, Siliciumcarbide SIC, Kwarts en halfgeleider kristal wafers. Met deskundige expertise en geavanceerde apparatuur excelleren we in niet-standaard productverwerking, met als doel een toonaangevende opto-elektronische materialen hightech onderneming te zijn.