Merknaam: | ZMSH |
Modelnummer: | Sic-wafer |
Betalingsvoorwaarden: | T/T |
SiC-substraat 4H/6H-P 3C-N 45,5 mm~150,0 mm Z-klasse P-klasse D-klasse
Deze studie onderzoekt de structurele en elektronische eigenschappen van 4H/6H-substraten van het poly-type siliciumcarbide (SiC) geïntegreerd met epitaxiaal geteelde 3C-N SiC-films.De poly-typische overgang tussen 4H/6H-SiC en 3C-N-SiC biedt unieke mogelijkheden om de prestaties van op SiC gebaseerde halfgeleiders te verbeterenDoor middel van chemische dampdepositie bij hoge temperatuur (CVD) worden 3C-SiC-films op 4H/6H-SiC-substraten afgezet, met als doel het verschil in lattice-match en de dislocatie-dichtheid te verminderen.Gedetailleerde analyse met behulp van röntgendiffractie (XRD), atoomkrachtmicroscopie (AFM) en transmissie-elektronenmicroscopie (TEM) onthult de epitaxiale uitlijning en oppervlaktemorfologie van de films.Elektrische metingen wijzen op verbeterde dragermobiliteit en breukspanning, waardoor deze substraatconfiguratie veelbelovend is voor de volgende generatie elektronische toepassingen met hoog vermogen en hoge frequentie.De studie benadrukt het belang van het optimaliseren van de groeiomstandigheden om gebreken tot een minimum te beperken en de structurele samenhang tussen de verschillende SiC-polytypen te verbeteren.
De 4H/6H polytype (P) siliciumcarbide (SiC) -substraten met 3C-N (stikstofgedopte) SiC-films vertonen een combinatie van eigenschappen die gunstig zijn voor verschillende hoge-vermogen, hoge frequentie,en hoge temperatuur toepassingenHier zijn de belangrijkste eigenschappen van deze materialen:
Deze eigenschappen maken de combinatie van 4H/6H-P en 3C-N SiC tot een veelzijdig substraat voor een breed scala aan geavanceerde elektronische, opto-elektronische en hoogtemperatuurtoepassingen.
De combinatie van 4H/6H-P en 3C-N SiC-substraten heeft een reeks toepassingen in verschillende industrieën, met name in apparaten met een hoog vermogen, hoge temperatuur en hoge frequentie.Hieronder worden enkele belangrijke toepassingen genoemd::
Deze toepassingen benadrukken de veelzijdigheid en het belang van 4H/6H-P 3C-N SiC-substraten bij het bevorderen van moderne technologie in een reeks industrieën.
Wat is het verschil tussen 4H-SiC en 6H-SiC?
Kortom, bij de keuze tussen 4H-SiC en 6H-SiC: kies voor 4H-SiC voor elektronica met een hoog vermogen en hoge frequentie, waar thermisch beheer van cruciaal belang is.Kies 6H-SiC voor toepassingen die prioriteit geven aan lichtemissie en mechanische duurzaamheid, met inbegrip van LED's en mechanische onderdelen.
Sleutelwoorden: SiC Substraat SiC wafer siliciumcarbide wafer